O óxido de índio de alta pureza é um novo material de alta tecnologia importante com muitas propriedades físicas e químicas exclusivas. É um óxido do metal raro índio com a fórmula In2O3, também conhecido como trióxido de índio. O óxido de índio de alta pureza é um material funcional semicondutor transparente do tipo N, conhecido por seu grande intervalo de banda, baixa resistividade, e alta atividade catalítica. Seu campo de aplicação é muito amplo, incluindo principalmente os seguintes aspectos:
In the glass, cerâmica, e campos químicos, high-purity indium oxide can be utilized to produce transparent ceramics, cerâmica para altas temperaturas, cerâmica eletrônica, vidro óptico especial, e catalisadores de alta eficiência.
Electronics and Photovoltaic Field: High-purity indium oxide is valued for its high transparency and conductivity, making it a common material in field-effect transistors, Dispositivos fotoelétricos, and other electronic devices. Indium tin oxide (ITO) is used in transparent electrodes, solar cell conductive films, and the manufacturing of other semiconductor materials.
Optical field: High-purity indium oxide has excellent transmittance and low dispersion, making it suitable for manufacturing optical components like optical prisms and lenses. The field of optoelectronics utilizes high-purity indium oxide to manufacture thin-film transistors (TFT) for driving circuits in flat panel displays and LCD TVs.
It is also used to prepare photodiodes (Leds) and photodetectors for optical communication and photoelectric sensing.
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